6.5.3.2.3pH值自然分區(qū)技術(shù)a)pH值自然分區(qū)脫硫工藝吸收塔系統(tǒng)由漿液循環(huán)吸收系統(tǒng)、氧化系統(tǒng)、除霧器等組成。其中，吸收塔上部噴淋區(qū)包括噴淋層及均流篩板，分為均流篩板持液區(qū)和噴淋吸收區(qū)，吸收塔底部漿液池分為上部氧化結(jié)晶區(qū)和下部供漿射流區(qū)。b)吸收塔入口煙道可設(shè)置預(yù)除塵水噴霧系統(tǒng)，噴霧覆蓋率應(yīng)不小于100%，每個(gè)噴嘴流量宜不大于2L/min。c)噴淋區(qū)宜設(shè)置均流篩板，數(shù)量不大于2個(gè)，可設(shè)在所有噴淋層下方，也可設(shè)在噴淋層之間。d)噴淋區(qū)宜設(shè)置降低塔壁煙氣偏流效應(yīng)的增效環(huán)，應(yīng)布置于吸收塔噴淋層下方。f)分區(qū)隔離器應(yīng)與氧化空氣管網(wǎng)高度一致，其隔離管的數(shù)量和管徑應(yīng)根據(jù)液體流動(dòng)性與分區(qū)效果確定。g)分區(qū)隔離器上部漿液pH值宜控制在4.8~5.5，下部漿液pH值宜控制在5.5~6.3。h)射流攪拌系統(tǒng)由射流泵、射流攪拌管網(wǎng)、噴嘴、支架及管閥組成。新建工程吸收塔漿液池應(yīng)采用射流攪拌系統(tǒng)，改造工程可根據(jù)改造條件確定是否保留原有其他類(lèi)型攪拌裝置。i)每座吸收塔宜設(shè)置兩臺(tái)射流泵，一用一備。射流泵應(yīng)設(shè)置兩個(gè)吸入口，一高一低，吸收塔啟動(dòng)時(shí)使用高吸入口，正常運(yùn)行時(shí)使用低吸入口。1)射流攪拌噴嘴應(yīng)均勻分布于吸收塔橫截面，噴嘴流量應(yīng)大于150m3/h。射流攪拌噴嘴正對(duì)噴嘴下方的吸收塔底板區(qū)域應(yīng)采取耐沖刷防磨措施。

6.5.3.2.4pH值物理強(qiáng)制分區(qū)技術(shù)a)pH值物理強(qiáng)制分區(qū)脫硫工藝吸收塔系統(tǒng)由漿液循環(huán)吸收系統(tǒng)(含塔外漿液箱)、塔內(nèi)和塔外的氧化系統(tǒng)、除霧器等組成。吸收塔上部噴淋區(qū)包括噴淋層及均流篩板，分為均流篩板持液區(qū)和噴淋吸收區(qū)，吸收塔底部漿液池與塔外漿液箱通過(guò)管道相連。b)塔外漿液箱與吸收塔應(yīng)就近布置，其壁板間距宜不大于5m。c)吸收塔漿液池漿液pH值宜控制在5.2～5.8，塔外漿液箱的漿液pH值宜控制在5.6～6.2。d)塔外漿液箱應(yīng)按密閉容器設(shè)計(jì)，容積應(yīng)滿(mǎn)足所連的全部循環(huán)泵停留時(shí)間不低于1min。e)塔外漿液箱內(nèi)部空間分為漿液區(qū)和空氣區(qū)。漿液區(qū)應(yīng)與吸收塔漿液池相連，空氣區(qū)應(yīng)與吸收塔煙氣空間相連。f)塔外漿液箱宜設(shè)置強(qiáng)制氧化系統(tǒng)，其宜與吸收塔內(nèi)漿液池氧化系統(tǒng)整體考慮。g)塔外漿液箱漿液區(qū)宜設(shè)置側(cè)入式攪拌器，并配備沖洗系統(tǒng)。i)塔外漿液箱配套循環(huán)泵宜不少于2臺(tái)，對(duì)應(yīng)吸收塔上部噴淋吸收區(qū)的最上部噴淋層。h)塔外漿液箱下部應(yīng)設(shè)置檢修孔，檢修孔尺寸應(yīng)滿(mǎn)足攪拌器槳葉的進(jìn)出要求。

6.5.3.2.5湍流器持液技術(shù)a)湍流器持液脫硫工藝吸收塔系統(tǒng)由漿液循環(huán)吸收系統(tǒng)、氧化系統(tǒng)、管束式除霧器等組成。吸收塔上部噴淋區(qū)包括噴淋層及湍流器，分為湍流持液區(qū)和噴淋吸收區(qū)。b)湍流器底面與吸收塔入口煙道接口最高點(diǎn)的間距宜不小于1m。湍流器頂部與最下層噴淋層的間距宜為2.5m，應(yīng)不小于1.5m。c)湍流器表面應(yīng)平整均勻，最高點(diǎn)與最低點(diǎn)的偏差不大于20mm。d)湍流器尺寸、葉片角度、排布方式應(yīng)結(jié)合數(shù)值模擬進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)，形成“旋流”與“匯流”耦合效應(yīng)，強(qiáng)化氣液傳質(zhì)。e)管束式除霧器支承梁頂面與最上層噴淋層的間距應(yīng)不小于1.5m。支承格柵宜采用合金材質(zhì)全焊接制作，單塊支承格柵長(zhǎng)度宜不大于2m，跨距宜不大于2.5m。支承格柵排布后整體平整度應(yīng)滿(mǎn)足最大偏差不大于20mm，相鄰格柵排布后整體平整度應(yīng)滿(mǎn)足最大偏差不大于5mm。f)管束式除霧器頂面、底面分別設(shè)置上下封閉板，實(shí)現(xiàn)過(guò)流煙氣的隔離，保證過(guò)流煙氣100%經(jīng)除霧器內(nèi)部通過(guò)。上封閉板頂部應(yīng)預(yù)留的垂直空間高度應(yīng)不小于1m，下封閉板下部應(yīng)配置定期沖洗水噴嘴。g)管束式除霧器應(yīng)配置沖洗裝置與沖洗管道。每個(gè)除霧器單元配置一個(gè)沖洗裝置，多個(gè)沖洗裝置通過(guò)沖洗支管相連組成一個(gè)沖洗區(qū)域。沖洗水泵揚(yáng)程應(yīng)滿(mǎn)足沖洗裝置出口壓頭不低于0.2MPa。

6.5.3.2.6均流篩板持液技術(shù)a)均流篩板持液脫硫工藝吸收塔系統(tǒng)由漿液循環(huán)吸收系統(tǒng)、氧化系統(tǒng)、除霧器等組成。吸收塔上部噴淋區(qū)主要包括噴淋層及均流篩板，分為均流篩板持液區(qū)和噴淋吸收區(qū)。25b)應(yīng)根據(jù)傳質(zhì)強(qiáng)度需要確定均流篩板層數(shù)和開(kāi)孔率，均流篩板層數(shù)不宜超過(guò)2層，開(kāi)孔率宜為28%～40%。均流篩板厚度應(yīng)為1.5mm~3mm，孔徑應(yīng)為25mm~35mm。。c)均流篩板與吸收塔入口煙道接口最高點(diǎn)的間距不小于0.8m，均流篩板與最下層噴淋層的間距宜不小于1.8m;當(dāng)采取兩層均流篩板時(shí)，上下層均流篩板間距宜不小于1.5m。d)均流篩板表面應(yīng)平整均勻，設(shè)計(jì)荷載應(yīng)不低于2kN/m2。e)均流篩板宜采用模塊化設(shè)計(jì)，每個(gè)模塊的開(kāi)孔排列方式應(yīng)結(jié)合數(shù)值模擬進(jìn)行優(yōu)化。f)均流篩板模塊間、模塊與吸收塔壁間應(yīng)密封完全，保證煙氣全部通過(guò)均流篩板孔。g)吸收塔壁均流篩板處應(yīng)設(shè)置檢修孔。h)循環(huán)泵可按單元制設(shè)置，也可按交互式設(shè)置，兩臺(tái)循環(huán)泵對(duì)應(yīng)一層噴淋層。i)循環(huán)泵和石膏排出泵的入口管道可不設(shè)置濾網(wǎng)。

6.5.3.3其他

6.5.3.3.1吸收劑制備、副產(chǎn)物處理系統(tǒng)、漿液排放和回收系統(tǒng)、脫硫廢水處理系統(tǒng)等工藝設(shè)計(jì)應(yīng)符合HJ/T179、GB/T19229.1和JB/T11647的規(guī)定。

6.5.3.3.2脫硫廢水處理系統(tǒng)出水應(yīng)采取措施進(jìn)一步處理或回用，不宜向外環(huán)境排放。

6.5.3.4濕法脫硫高效協(xié)同除塵

6.5.3.4.1應(yīng)采用合適的煙氣均布措施，如均流篩板或煙氣湍流器等強(qiáng)化氣液傳質(zhì)構(gòu)件，并輔以CFD數(shù)值模擬，必要時(shí)采用物理模型予以驗(yàn)證。同時(shí)可采用性能增效環(huán)或增加噴淋密度等措施，降低塔壁煙氣偏流效應(yīng)。

6.5.3.4.2應(yīng)采用出口煙氣攜帶液滴濃度不大于30mg/m3的高效除霧器，包括管束式除霧器、聲波除霧器、高效屋脊式除霧器等。6.5.3.4.4吸收塔內(nèi)應(yīng)用的協(xié)同除塵設(shè)備及構(gòu)件應(yīng)具有一定的耐溫性能，在通流煙氣溫度達(dá)到80℃時(shí)，應(yīng)保持20min無(wú)形變。6.5.3.4.5吸收塔內(nèi)采用協(xié)同除塵設(shè)備時(shí)，造成的煙氣阻力增加宜不大于500Pa。

6.5.4煙氣循環(huán)流化床脫硫工藝設(shè)計(jì)要求

6.5.4.1吸收塔系統(tǒng)

6.5.1.1.1煙氣循環(huán)流化床吸收塔為多段長(zhǎng)程高效反應(yīng)塔，吸收塔入口前應(yīng)設(shè)置煙氣整流裝置。6.5.4.1.2吸收塔床層壓降一般控制在1300Pa以上，床層波動(dòng)宜不大于±150Pa。6.5.4.1.3煙氣在吸收塔內(nèi)的停留時(shí)間在5s以上，物料在吸收塔內(nèi)的平均停留時(shí)間在1min以上。

6.5.4.1.4吸收塔的吸收劑和循環(huán)灰加入點(diǎn)宜設(shè)置在文丘里之前的高溫段。

6.5.4.1.5吸收塔的降溫噴水應(yīng)采用超細(xì)霧化噴水，工藝水噴槍?xiě)?yīng)采用超細(xì)霧化回流式噴槍?zhuān)に囁到y(tǒng)應(yīng)滿(mǎn)足穩(wěn)定控制吸收塔反應(yīng)溫度波動(dòng)不大于±1℃的要求。

編輯：張偉